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2026-02
使用BeNano 180 Zeta Max分析不同pH条件下CMP抛光液的Zeta电位与粒径变化
在半导体制造工艺中，化学机械抛光（CMP）是实现晶圆全局和局部平坦化的关键工序。CMP抛光液与抛光垫、固定环协同工作，通过化学腐蚀和机械研磨相结合的方式，有效消除晶圆表面的不规则形貌，获得高度平整的表 ...
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2026-01
明胶溶液流变学特性的微流变分析研究
1. 引言明胶作为一种生物大分子亲水胶体，是胶原蛋白部分水解的产物，广泛应用于食品、医药和工业领域。其溶液状态下的流变特性，特别是粘弹性行为，对产品质量控制与工艺优化具有重要意义。明胶溶液的凝固点通常 ...
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21
2026-01
空心玻璃微珠抗压强度评价方法研究：基于粒径与真密度检测的分析
摘要空心玻璃微珠（Hollow Glass Microspheres, HGM）作为一种功能性填料，因其独特的空心结构而具有密度低、隔热性好、化学稳定性高等特点，广泛应用于高分子复合材料、涂料、航空航 ...
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2026-01
粒度分析中的统计指标：均值、中位数与众数的定义与应用
在颗粒系统的分析表征中，准确理解并合理选用统计指标是数据解读的基础。均值、中位数和众数是三种常用的集中趋势度量指标，它们从不同角度描述数据集的典型值或中心位置，在粒度分布报告中具有明确的意义与应用场景 ...
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07
2026-01
等效球体直径的原理与应用价值
在颗粒测量领域，我们常常面临一个基本问题：如何准确描述和比较不规则形状颗粒的尺寸？对于理想球体而言，直径是描述其大小的直接且有效的参数。然而，现实中的颗粒大多具有不规则形状、表面粗糙或结构多孔等特征， ...
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